HG5下展式搪瓷放料閥是一種專門設計用于‌化工、制藥、食品‌等‌強腐蝕性環(huán)境‌下，安裝在‌反應釜、儲罐、結晶罐等容器底部‌進行‌放料、取樣或清洗操作的閥門‌。

主要應用范圍

1. ‌強腐蝕性介質(zhì)場合：‌

   • ‌無機酸：‌ 硫酸（尤其是濃硫酸、稀硫酸）、鹽酸、硝酸、磷酸（溫度濃度需注意）、鉻酸、混酸等。
   • ‌有機酸：‌ 醋酸、草酸、檸檬酸、甲酸等。
   • ‌鹽類溶液：‌ 氯化物（如氯化鈉、氯化鐵、氯化銅）、硫酸鹽、硝酸鹽等。
   • ‌溶劑：‌ 醇類、酮類、酯類（需確認兼容性）。
   • ‌反應混合物：‌ 各種強腐蝕性化學反應的中間體或產(chǎn)物。

2. ‌化工過程設備：‌

   • ‌反應釜/反應罐底部放料：‌ 這是最經(jīng)典的應用場景。例如合成染料、顏料、農(nóng)藥、醫(yī)藥中間體、精細化學品等的反應結束后排放物料。
   • ‌儲罐/計量罐底部放料：‌ 存放各種腐蝕性原料或成品的儲罐下方。
   • ‌結晶罐/蒸發(fā)器底部放料：‌ 在結晶或濃縮工藝后排放晶體懸浮液或濃縮液。
   • ‌中和釜/稀釋槽放料：‌ 處理酸堿性物料。
   • ‌過濾器/壓濾機進料或排液。‌

3. ‌含顆粒或結晶的介質(zhì)：‌

   • 下展式結構使其特別適合處理含有少量固體顆粒、結晶或漿料的腐蝕性介質(zhì)。閥瓣開啟方向避免了顆粒直接沖刷密封面。
   • ‌例如：‌ 結晶過程中的晶體懸浮液、反應生成的沉淀物、含有少量催化劑的物料等。

4. ‌衛(wèi)生要求較高的場合（需滿足特定標準）：‌

   • 搪瓷表面光滑、不滲透、易清潔的特性，使其可用于對清潔度有要求的場合，如‌食品工業(yè)中的某些酸、鹽溶液處理工序‌，以及‌制藥行業(yè)的某些中間體或原料藥生產(chǎn)‌。但需確認搪瓷釉料符合相關衛(wèi)生標準（如FDA），且設計需便于徹底清潔。

5. ‌中低壓、常溫或中溫場合：‌

   • 通常設計壓力等級不高（如PN6/PN10/PN16）。
   • 工作溫度一般在 ‌-20℃ 至 +200℃‌ 范圍內(nèi)。
     • ‌注意：‌ 搪瓷層不耐急冷急熱（熱沖擊），溫度劇烈變化容易導致瓷層爆裂。使用溫度應平穩(wěn)，避免超過設計上限。

? 注意事項和不適用情況

1. ‌含氟介質(zhì)（特別是氫氟酸和氟化物溶液）：‌ 搪瓷會被嚴重腐蝕溶解，‌絕對禁止使用‌。
2. ‌高溫濃堿（如濃度>30%，溫度>80℃的氫氧化鈉/鉀溶液）：‌ 搪瓷會被強堿緩慢腐蝕溶解，導致失效。低溫稀堿可用，但需謹慎評估。
3. ‌含有高硬度、尖銳或大顆粒固體（如砂礫、金屬屑）的介質(zhì)：‌ 雖然耐磨，但劇烈沖刷或撞擊仍可能導致瓷層破損。對于大量硬顆粒或磨損性極強的漿料，應考慮更耐磨的閥門（如陶瓷閥）。
4. ‌劇烈溫度變化（熱沖擊）：‌ 會導致瓷層龜裂、剝落。‌嚴禁用高溫蒸汽直接噴射沖洗冷的閥門！‌
5. ‌機械沖擊或碰撞：‌ 搪瓷脆性大，受到硬物敲打或撞擊極易碎裂。
6. ‌高壓場合：‌ 通常不適合高壓（高于PN16/Class 150）。
7. ‌修復困難：‌ 瓷層一旦破損，難以在現(xiàn)場修復，通常需要返廠或更換。